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Principais recursos
Saída de laser de alta estabilidade: Garante desempenho consistente em vários ambientes industriais.
Alta energia de pulso único: fornece até 1 mJ por pulso para gravação profunda e precisa.
Parâmetros de pulso ajustáveis: Oferece flexibilidade com larguras de pulso que variam de 50 a 130 ns e taxas de repetição de 20 a 200 kHz.
Excelente qualidade de feixe: M² ≤ 1,6, adequado para tarefas de marcação fina e de alta resolução.
Design refrigerado a ar: Gerenciamento térmico eficiente para operação livre de manutenção.
Estrutura Compacta: Facilita a integração fácil em sistemas existentes.
Aplicativo
Processamento de Materiais
Marcação a Laser
Gravação Profunda
Limpeza de superfícies
Soldagem de Precisão
Microusinagem
Corte e perfuração de metais finos
Gravação a laser
Texturização de superfície (fosque)
Processamento de Silício
Corte de resistor
Gravura de Filme ITO
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